特許

J-GLOBAL ID：200903008867681210

多孔質酸化チタン皮膜の製造方法

発明者： 石沢 均
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-352799
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178791
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】チタンの表面に、見かけの面積の数百倍から千倍に増加した 0.1μm 以上の厚さを有する多孔質酸化チタン皮膜を低コストで形成する方法を提供すること、さらには、この多孔質酸化チタン皮膜が高い活性をもつようにするための製造方法を提供する。【解決手段】グリセロリン酸塩と金属酢酸塩とからなる電解質の水溶液、又はリン酸と金属の有機酸塩とからなる電解質の水溶液中でチタン基板を陽極酸化し、リンと、金属酢酸塩または金属の有機酸塩に対応する金属を含む陽極酸化膜を形成する工程と、前記陽極酸化膜が形成されたチタン基板を水中または水蒸気中で水熱処理する工程と、前記チタン基板を酸性溶液に浸漬する工程と、から成ることを特徴とする多孔質酸化チタン皮膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

グリセロリン酸塩と金属酢酸塩とからなる電解質の水溶液、又はリン酸と金属の有機酸塩とからなる電解質の水溶液中でチタン基板を陽極酸化し、リンと、金属酢酸塩または金属の有機酸塩に対応する金属を含む陽極酸化膜を形成する工程と、前記陽極酸化膜が形成されたチタン基板を水中または水蒸気中で水熱処理する工程と、前記チタン基板を酸性溶液に浸漬する工程と、から成ることを特徴とする多孔質酸化チタン皮膜の製造方法。