特許
J-GLOBAL ID：200903008876836200
スパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-115797
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302841
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】【課題】 同一真空容器内で複数の材料からなる積層構造の薄膜を連続して形成するスパッタ装置において、基板やターゲット表面への汚染を少なくし、高い品質の膜が得られるようにする。【解決手段】 真空容器11内に、基板13と複数のターゲット14を保持する回動可能なターゲット保持体20とをスパッタアップ配置とし、かつ前記基板13とターゲット14との間に、前記基板13と平面的に略一致する位置に前記ターゲット14に対応する形状の開口部12aが形成されたスパッタシールド板12を設け、ターゲット保持体20を回転させて所定のターゲット14を開口部12aから基板13と対向させるようにした。
請求項（抜粋）：
真空容器中に配置した基板とターゲットとの間にプラズマ放電を生成し、前記ターゲットから放出されるスパッタ粒子を前記基板上に堆積させるスパッタ装置において、前記真空容器の下方に回動可能に支持され、かつ上面に複数個のターゲットが保持されたターゲット保持体と、前記真空容器の上方に配置され、かつ被処理面を前記ターゲットに向けた基板が保持された基板保持体と、前記真空容器の内部を、前記基板保持体が配置される上室と前記ターゲット保持体が配置される下室にそれぞれ分割し、かつ前記基板と平面的に略一致する位置に前記ターゲットに対応する形状の開口部が形成されたシールド部材とを備えたことを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, G11B 5/39
, H01L 21/203
C23C 14/34 C
, G11B 5/39
, H01L 21/203 S
