特許

J-GLOBAL ID：200903008885734800

マスクおよびマスクの製造方法

発明者： 伊藤 慶子 ,  森安 雅治 ,  頭本 信行 ,  南谷 靖史 ,  喜多 秀樹
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-229447
公開番号（公開出願番号）：特開平11-065090
出願日： 1997年08月26日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 マスクに形成された欠陥透光部による欠陥を、安全かつ低コストで容易に解消することができるマスクを得ることを目的とする。【解決手段】 加工光16を透過可能な基板19と、基板19上に形成された開口部17および遮光部18により所望のパターンが形成されたマスク20において、マスク20を通過した加工光16のマスク20の垂直面に対する角度を加工光の出射角δとしたとき、開口部17を通過する加工光16aの出射角δaと、遮光部18に形成された欠陥開口部21を通過する加工光16bの出射角δbとが異なるように、欠陥開口部21を通過する加工光16bの出射角δを変更させる粗面化部22を基板19の裏面19aの欠陥開口部21に対応する箇所に形成する。

請求項（抜粋）：

透光部および遮光部により所望のパターンが形成されたマスクにおいて、上記マスクを通過した加工光の上記マスクの垂直面に対する角度を上記加工光の出射角としたとき、上記透光部を通過する上記加工光の出射角と、上記遮光部に形成された欠陥透光部を通過する上記加工光の出射角とが異なるように、上記欠陥透光部を通過する上記加工光の出射角を変更させる変更部を備えたことを特徴とするマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 W ,  G03F 1/14 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 W