特許
J-GLOBAL ID:200903008895337486

深根性植物による岩盤法面の保護方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 相田 伸二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-088735
公開番号(公開出願番号):特開平8-260468
出願日: 1995年03月22日
公開日(公表日): 1996年10月08日
要約:
【要約】【目的】地域本来の樹種による緑の回復・創造をおこないつつ、美観或いは景観を損ねない形で岩盤の法面を強化保護する。【構成】所定の傾斜方向に傾斜した法面2が形成された岩盤地山3において、岩盤地山3の法面2側に植溝5を掘削形成し、植溝5に植土材11を設置すると共に、該植土材11にポット苗12を植えつけ、該ポット苗12を樹木19に成長させることにより、該樹木19の根群20を、植溝5から、岩盤地山3中の自然亀裂17を介して該岩盤地山3中に成長進入させて、該岩盤地山3中に成長進入させた根群20により、該岩盤地山3を固定する形で法面2を保護するようにして構成する。
請求項(抜粋):
所定の傾斜方向に傾斜した岩盤法面が形成された岩盤地山において、前記岩盤地山の岩盤法面側に植付部を掘削形成し、前記植付部に植土材を設置すると共に、該植土材に深根性植物を植えつけ、前記深根性植物を成長させることにより、該深根性植物の根群を、前記植付部から、前記岩盤地山中の自然亀裂を介して該岩盤地山中に成長進入させて、該岩盤地山中に成長進入させた根群により、該岩盤地山を固定する形で前記岩盤法面を保護するようにして構成した、深根性植物による岩盤法面の保護方法。
IPC (2件):
E02D 17/20 102 ,  A01G 23/02
FI (2件):
E02D 17/20 102 E ,  A01G 23/02
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭61-113927
  • 法面植栽工法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-302879   出願人:日本植生株式会社

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