光学積層体及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-299624
公開番号（公開出願番号）：特開2004-133313
出願日： 2002年10月11日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】従来のものよりも、製造効率に優れ、レターデーションのコントロール性に優れ、またそのばらつきが少なく、かつ液晶セルなどによる複屈折を高度に補償できる新規な光学積層体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】固有複屈折値が負である材料を主成分として含んでなる層(A層)の少なくとも片面に、透明な樹脂を主成分として含んでなる層(B層)を積層してなる光学積層体であって、前記積層体の厚さをD、波長550nmの光で測定した厚さ方向の屈折率をnz、厚さ方向に垂直な互いに直交する2方向の屈折率をnx、ny(ただしnx>ny)としたとき以下の▲1▼及び▲2▼の要件を満たすことを特徴とする光学積層体。▲1▼nz>(nx+ny)/2▲2▼(nx-ny)×Dで表される正面レターデーションReのばらつきが±10nm以内である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

固有複屈折値が負である材料を主成分として含んでなる層(A層)の少なくとも片面に、透明な樹脂を主成分として含んでなる層(B層)を積層してなる光学積層体であって、前記積層体の厚さをD、波長550nmの光で測定した厚さ方向の屈折率をnz、厚さ方向に垂直な互いに直交する2方向の屈折率をnx、ny(ただしnx>ny)としたとき以下の▲1▼及び▲2▼の要件を満たすことを特徴とする光学積層体。 ▲1▼nz>(nx+ny)/2 ▲2▼(nx-ny)×Dで表される正面レターデーションReのばらつきが±10nm以内である。

IPC (2件)：

G02B5/30 , G02F1/13363

FI (2件)：

G02B5/30 , G02F1/13363

Fターム (18件)：

2H049BA06 , 2H049BA42 , 2H049BB03 , 2H049BB47 , 2H049BB50 , 2H049BC03 , 2H049BC22 , 2H091FA11X , 2H091FA11Z , 2H091FA12X , 2H091FA12Z , 2H091FB02 , 2H091FD06 , 2H091HA10 , 2H091KA02 , 2H091LA12 , 2H091LA17 , 2H091LA19

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-256023
特開平2-256023
特開平2-256023

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