特許
J-GLOBAL ID:200903008905877735
非晶質合成シリカ粉体及びこれを用いたガラス成形体
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-028915
公開番号(公開出願番号):特開2001-220157
出願日: 2000年02月01日
公開日(公表日): 2001年08月14日
要約:
【要約】【課題】工業的に利用価値の高い、OH基及びCl濃度が低く、かつ非結晶性すなわち非晶質の合成シリカ粉体、及びこの非晶質合成シリカ粉体を用いて得られるシリカガラス成形体を提供する。【解決の手段】非結晶性のシリカからなり、OH基濃度が50ppm以下であり、かつCl濃度が50ppm以下である非晶質合成シリカ粉体及びこれを用いて得られるガラス成形体を用いる。
請求項(抜粋):
非結晶性のシリカからなり、OH基濃度が50ppm以下であり、かつCl濃度が50ppm以下であることを特徴とする非晶質合成シリカ粉体。
IPC (4件):
C03B 20/00
, C01B 33/18
, C03B 8/04
, C03C 3/06
FI (5件):
C03B 20/00 D
, C03B 20/00 A
, C01B 33/18 Z
, C03B 8/04 D
, C03C 3/06
Fターム (72件):
4G014AH11
, 4G014AH23
, 4G062AA10
, 4G062BB02
, 4G062CC07
, 4G062DA08
, 4G062DB01
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062EE01
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FA10
, 4G062FB01
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ06
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM40
, 4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072GG01
, 4G072HH08
, 4G072JJ01
, 4G072JJ03
, 4G072NN13
, 4G072QQ01
, 4G072QQ02
, 4G072RR11
, 4G072TT05
, 4G072TT19
, 4G072UU01
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