特許
J-GLOBAL ID：200903008913589544
位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323337
公開番号（公開出願番号）：特開平7-152144
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 クロムレス方式の位相シフトマスクにおいて、任意のパターン幅でかつ少ない工程で所望のパターンの転写を可能にする。【構成】 透明基板1上に形成される透明材料からなる位相シフタ3のエッジの少なくとも一部には、位相シフタの一部で形成されたダミーパターン4をエッジに沿うように設ける。このダミーパターンと位相シフトのエッジの間隔を変化させることで、位相シフタのエッジ部におけるパターンを消去し、或いはパターン幅を微細化でき、露光工程の簡略化と、パターン形成の自由度を高めることが可能となる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に所要パターンに形成された透明材料からなる位相シフタを有し、この位相シフタのエッジにおいてパターン露光を行うようにした位相シフトマスクにおいて、前記エッジの少なくとも一部には、前記位相シフタの一部で形成されたダミーパターンをエッジに沿うように設けたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
