特許
J-GLOBAL ID:200903008913767191
光記録媒体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-055441
公開番号(公開出願番号):特開2001-243667
出願日: 2000年03月01日
公開日(公表日): 2001年09月07日
要約:
【要約】【課題】優れた繰り返し特性を有する光記録媒体を製造できる方法を提供することにある。【解決手段】少なくとも保護層、記録層、反射層を含む積層膜をスパッタリング法によって形成する光記録媒体の製造方法であって、記録層成膜時の成膜ガス圧が、記録層以外の層の成膜時の成膜ガス圧以下であり、かつ、記録層以外の層のうち少なくとも1層の成膜ガス圧が、記録層成膜時の成膜ガス圧より高圧である。
請求項(抜粋):
少なくとも保護層、記録層、反射層を含む積層膜をスパッタリング法によって形成する光記録媒体の製造方法であって、記録層成膜時の成膜ガス圧が、記録層以外の層の成膜時の成膜ガス圧以下であり、かつ、記録層以外の層のうち少なくとも1層の成膜ガス圧が、記録層成膜時の成膜ガス圧より高圧であることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
IPC (2件):
G11B 7/26 531
, B41M 5/26
FI (2件):
G11B 7/26 531
, B41M 5/26 X
Fターム (16件):
2H111EA04
, 2H111EA12
, 2H111EA23
, 2H111FA01
, 2H111FA12
, 2H111FA14
, 2H111FB05
, 2H111FB09
, 2H111FB12
, 2H111GA03
, 5D121AA01
, 5D121AA04
, 5D121AA05
, 5D121EE03
, 5D121EE16
, 5D121GG20
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