特許
J-GLOBAL ID:200903008913854361

微細構造物の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-046596
公開番号(公開出願番号):特開平6-258509
出願日: 1993年03月08日
公開日(公表日): 1994年09月16日
要約:
【要約】【目的】 簡易な設備・プロセスで安定して微細な構造物を作製する方法を提供すること。【構成】 フェニルアセチレンなどの光重合性化合物層を備える基板に直線偏光のコヒーレント光(例えば、エキシマレーザ光)を照射することにより化合物を光重合させることを特徴とする微細構造物の作製方法。上記の光重合性化合物層は基板表面に光重合性化合物を吸着、含浸等させることにより設けられる。
請求項(抜粋):
光重合性化合物層を備える基板に直線偏光成分を含むコヒーレント光を照射することにより該化合物を光重合させることを特徴とする微細構造物の作製方法。
IPC (3件):
G02B 5/18 ,  G02B 5/30 ,  G03F 7/00 505
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開平4-023806
  • 特開昭61-256942
  • 特表平3-503752
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