特許

J-GLOBAL ID：200903008914686500

基板洗浄装置

発明者： 吉田 武司 ,  森田 彰彦 ,  吉田 征弘 ,  佐々木 忠司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-043237
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242093
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構造で基板の洗浄面に対して洗浄具を所定の押圧荷重で作用させ得る基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 支持アーム7の先端側アーム部分7aに回転体10に対して昇降可能に洗浄具支持体13が設けられ、その下端部に洗浄ブラシ8が取り付けられている。圧縮コイルスプリング16の付勢力を利用した重量均衡機構17により洗浄ブラシ8や洗浄具支持体13等の自重と釣り合って洗浄ブラシ8が所定高さに維持されている。洗浄具支持体13の上端に錘支持部19が取り付けられている。錘支持部19に錘WTを載置支持すると、その錘WTの自重によって洗浄具支持体13が下降され、洗浄ブラシ8が基板の洗浄面に近づけられ、錘WTの荷重に応じた押圧荷重で洗浄ブラシ8が基板の洗浄面に作用される。

請求項（抜粋）：

基板の洗浄面に対して洗浄具を所定の押圧荷重で作用させて前記基板の洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄具を前記基板の洗浄面に対して昇降可能に支持する昇降支持手段と、前記昇降支持手段を下降または上昇させるように前記昇降支持手段に錘を作用させて、前記洗浄具を前記基板の洗浄面に近づけることで、前記基板の洗浄面に対して前記洗浄具を所定の押圧荷重で作用させる押圧荷重付与手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 1/04

FI (2件)：

H01L 21/304 341 B ,  B08B 1/04