特許
J-GLOBAL ID：200903008923058253
露光装置及び露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-361889
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176739
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】マスクステージとウエハステージの位置決め追い込み動作のための制御が容易であり、露光工程のスループットが向上する投影露光装置及び投影露光方法を提供する。【解決手段】マスク6に形成されたパターンに対して基板10の複数の露光領域を順次位置決めし、複数の露光領域にパターンを露光する露光装置において、マスク6を保持して移動するマスクステージ7と、基板10を保持して移動する基板ステージ11と、基板ステージ11の位置を検出する位置検出手段17と、位置決めする際に、パターンと露光領域との位置ずれ量が所定の偏差ΔXになるまで基板ステージ11を移動して、基板ステージ11の停止後に偏差ΔXをマスクステージ7の移動により低減するように、マスクステージ7と基板ステージ11とを制御する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンに対して基板の複数の露光領域を順次位置決めし、前記複数の露光領域に前記パターンを露光する露光装置において、前記マスクを保持して移動するマスクステージと、前記基板を保持して移動する基板ステージと、前記基板ステージの位置を検出する位置検出手段と、前記位置決めする際に、前記パターンと前記露光領域との位置ずれ量が所定の偏差になるまで前記基板ステージを移動して、前記基板ステージの停止後に前記偏差を前記マスクステージの移動により低減するように前記マスクステージと前記基板ステージとを制御する制御装置を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 B
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 525 X
