特許
J-GLOBAL ID:200903008941093597

水素ガス生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-347718
公開番号(公開出願番号):特開2002-154802
出願日: 2000年11月15日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】 ケミカルハイドライドと呼ばれる金属水素化物を用いて水素ガスを効率的に生成する。【解決手段】 金属水素化物を加水分解するための反応器を複数並列に設ける。各反応器には金属水素化物を保持しておく。加水分解用の水は、まとめて貯蔵し、各反応器に分配供給する。小型の反応器を並列することにより、各反応器での反応率を向上させることができる。また、水素ガスの要求量に応じて反応に使用する反応器数を制御することにより、過剰の水素生成を回避することができ、無駄を低減することができる。
請求項(抜粋):
金属水素化物を加水分解または熱分解して水素ガスを生成する水素ガス生成装置であって、前記分解反応を行うために並列に設けられた複数の反応器と、該反応器で生成された水素ガスを合流して排出する排出路とを備える水素ガス生成装置。
IPC (5件):
C01B 3/04 ,  H01M 8/00 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06 ,  H01M 8/10
FI (5件):
C01B 3/04 Z ,  H01M 8/00 Z ,  H01M 8/04 J ,  H01M 8/06 R ,  H01M 8/10
Fターム (5件):
5H026AA04 ,  5H026AA06 ,  5H027AA04 ,  5H027AA06 ,  5H027BA14

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