排ガスの処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-176696
公開番号（公開出願番号）：特開平9-000866
出願日： 1995年06月20日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としない方法を提供。【構成】排ガスを冷却除塵塔31に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、抜出し、第1隔板6と第2隔板3とによって第1室5と第2室6と第3室7とに区画された密閉槽の第2室に供給し、排ガス分散管9を通して第1室の吸収液中に吹込み、上部の排ガスを、その排ガス上昇筒内10を上昇させ、上昇してきた排ガスを、先端から排ガス洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突板26に衝突させ、排ガス液幕と接触させ、排ガス出口11から排出させミストエリミネータ12に導入し、排ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ放出し、第2隔板上の排ガス洗浄液を排ガス洗浄液槽31に導入貯留し、排ガス衝突板の液分散機構に供給し、供給する洗浄液の一部を固液分離装置33に導入し、得られた洗浄液を清澄排ガス洗浄液槽32に貯留し、排ガス洗浄液槽32に移送する。

請求項（抜粋）：

粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを処理する方法において、(i)排ガスを冷却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、その冷却除塵塔から抜出すこと、(ii)冷却除塵塔から抜出された排ガスを、第1隔板とその上方に位置する第2隔板とによってその内部が第1室と第1室の上方に隣接する第2室と第2室の上方に隣接する第3室とに区画された密閉槽におけるその第2室に供給すること、(iii)第2室に供給された排ガスを第1隔板に形成された透孔に垂設された排ガス分散管を通して第1室に収容されている吸収液中に吹込むこと、(iv)第1室の上部空間に存在する排ガスを第1室と第3室との間を連絡し、その上端が第2隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、(v)排ガス上昇筒を通して第3室に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に配設されている液体流下壁と液分散機構を有し、その液体流下壁の先端から排ガス洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突させるとともに、排ガスをその液幕と接触させること、(vi)前記液幕と接触させた後の排ガスを第3室に配設された排ガス出口から排出させること、(vii)第3室から排出された排ガスをミストエリミネータに導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した後、ミストエリミネータから抜出すこと、(viii)ミストエリミネータから抜出した排ガスを湿式電気集塵処理することなく大気中へ放出させること、(ix)前記密閉槽内の第2隔板上に滞留する排ガス洗浄液を密閉槽外へ抜出し、排ガス洗浄液槽に導入し、貯留すること、(x)排ガス洗浄液槽に貯留された排ガス洗浄液を排ガス衝突板に配設した液分散機構に供給すること、(xi)排ガス衝突板に供給する排ガス洗浄液の一部を固液分離装置に導入すること、(xii)固液分離装置で得られた清澄排ガス洗浄液を清澄排ガス洗浄液槽に貯留すること、(xiii)清澄排ガス洗浄液槽の貯留液を排ガス洗浄液槽に移送すること、を特徴とする排ガスの処理方法。

IPC (9件)：

B01D 53/50 , B01D 53/77 , B01D 46/00 , B01D 47/00 , B01D 50/00 501 , B01D 50/00 , B01D 50/00 502 , B01D 53/18 , B01D 53/34 ZAB

FI (9件)：

B01D 53/34 125 Q , B01D 46/00 E , B01D 47/00 D , B01D 50/00 501 K , B01D 50/00 501 Z , B01D 50/00 501 G , B01D 50/00 502 A , B01D 53/18 E , B01D 53/34 ZAB

前のページに戻る