光学的測定のためのモデルとパラメータの選択

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 鶴田準一 , 島田哲郎 , 河野努 , 下道晶久 , 西山雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-526155
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534192
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

ウエハ(47)内の構造物(59)を光学的に計測するため、この構造物(59)のサイズに関する幾何学的パラメータ群を有するプロファイル・モデルを選択する。1つ以上の入力回折信号と1つ以上の選択基準を用いてプロファイル・モデルのための最適化パラメータを選択する。選択したプロファイル・モデルと最適化パラメータ群を1つ以上の選択基準と照らし合わせる。1つ以上の選択基準が満たされるまで、プロファイル・モデルを選択し、最適化パラメータ群を選択し、選択したプロファイル・モデルと最適化パラメータ群をテストするというプロセスを実施する。

請求項（抜粋）：

ウエハの構造物を光学的に計測する際に使用するプロファイル・モデルの選択と、そのプロファイル・モデルのパラメータの選択を行なう方法であって、 a)1つ以上の終了基準を設定するステップと、 b)1つ以上のパラメータ選択基準を設定するステップと、 c)ウエハの構造物の光学的計測に使用するため、前記構造物の大きさに関連する幾何学的パラメータ群を有するプロファイル・モデルを選択するステップと、 d)1つ以上の入力回折信号と、前記1つ以上のパラメータ選択基準とを利用し、前記プロファイル・モデルについての前記幾何学的パラメータ群から変換した最適化パラメータ群を選択するステップと、 e)前記選択したプロファイル・モデルと前記最適化パラメータ群を前記1つ以上の終了基準に照らしてテストするステップと、 f)前記1つ以上の終了基準が満たされるまで前記ステップc)、d)、e)を実行するステップとを含む方法。

IPC (4件)：

H01L21/66 , G01B11/06 , G01N21/00 , G01N21/41

FI (4件)：

H01L21/66 J , G01B11/06 G , G01N21/00 B , G01N21/41 Z

Fターム (18件)：

2F065AA30 , 2F065BB17 , 2F065CC17 , 2F065FF48 , 2F065QQ00 , 2F065QQ17 , 2F065QQ41 , 2G059AA03 , 2G059AA05 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106DJ11 , 4M106DJ20

引用特許：

審査官引用 (1件)

周期格子の回折信号のライブラリの生成
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-527823 出願人：ティンバーテクノロジーズ,インコーポレイティド

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