特許

J-GLOBAL ID：200903008954955490

基板および液滴噴射装置並びにフレネルレンズ付基板の製造方法

発明者： 宇佐美 浩之 ,  浜崎 聡信 ,  山田 秀一 ,  三原 顕 ,  池田 宏 ,  近藤 義尚 ,  井上 七穂 ,  森田 直己
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-245623
公開番号（公開出願番号）：特開2002-052703
出願日： 2000年08月14日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】 音響フレネルレンズを精度良く形成できる基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 固定基板10上に、第1マスク層12を形成し、その上部に形成したフォトレジストをマスクにして第1マスク層12をエッチングし、固定基板10の一部を露出させる。同様にして第1マスク層12の上に、第2マスク層16、第3マスク20を積層する。この状態で、第3マスク層20をマスクにして固定基板10をエッチングする。第3マスク層20を除去した後、第2マスク層16をマスクにして固定基板10をエッチングする。同様にして第1マスク層12をマスクにして固定基板10のエッチングすることによって、精度良く音響フレネルレンズが形成できる。すなわち、エッチングの前にマスク層12、16、20を積層するため、マスク層が精度良く形成され、このマスク層に基づいてエッチングするため、音響フレネルレンズが精度良く製造できる。

請求項（抜粋）：

音響波を集束する音響レンズが表面を削って形成されていることを特徴とする基板。

IPC (4件)：

B41J 2/015 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16

FI (3件)：

B41J 3/04 103 Z ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H

Fターム (11件)：

2C057AF52 ,  2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AG62 ,  2C057AG83 ,  2C057AK07 ,  2C057AN01 ,  2C057AP31 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  2C057BA15