特許
J-GLOBAL ID：200903008959246331
金属酸化物薄層の付着方法及び付着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-114149
公開番号（公開出願番号）：特開平8-092733
出願日： 1995年05月12日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：
【要約】【目的】 基体上への1層以上の金属酸化物薄層の付着方法を提供すること。【構成】 基体上で化学量論的組成を示し、エレクトロクロミックセル中で最高の着色効果を示すエレクトロクロミック層として特に有用である、1つ以上の金属酸化物薄層の前記基体上への付着方法において、前記基体上への金属酸化物の付着作用が加熱手段によって生ずる熱を用いる前記酸化物の真空蒸発作用であり、前記基体への酸化物蒸気流が前記加熱手段と蒸気との直接接触が避けられる流路に従うことを特徴とする前記方法。
請求項（抜粋）：
基体上で化学量論的組成を示し、エレクトロクロミックセル中で最高の着色効果を示すエレクトロクロミック層として特に有用である、1つ以上の金属酸化物薄層の前記基体上への付着方法において、前記基体上への金属酸化物の付着作用が加熱手段によって生ずる熱を用いる前記酸化物の真空蒸発作用であり、前記基体への酸化物蒸気流が前記加熱手段と蒸気との直接接触が避けられる流路に従うことを特徴とする前記方法。
IPC (5件)：
C23C 14/24
, B01J 19/00
, C01G 31/00
, C03C 17/245
, G09G 3/19
