基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-298503
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118782
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、液処理ユニットを複数段に積み上げる場合、処理液の配管を短くできるレイアウトにすること。【解決手段】複数段に積み上げられた液処理ユニットを例えばカセットステーションから奥側を見て右(あるいは左)側に一直線に沿って配置し、複数段の液処理ユニットの隣あるいは下方側に、当該液処理装置に用いられる処理液の容器やバルブ等の供給制御機器をケミカルユニットとしてまとめて配置する。

請求項（抜粋）：

基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、このカセットステ-ションに接続され、前記受け渡し手段により搬送された基板を処理する処理ステ-ションと、を有し、前記処理ステ-ションは、複数段に積み重ねられると共に各々処理液により基板に対して処理を行う液処理ユニットと、これら液処理ユニットに対して基板の搬出入を行う搬送手段と、前記処理液を収納する容器が収納され、液処理ユニットの隣または最下段の液処理ユニットの下方側に設けられた容器収納部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501 , H01L 21/68

FI (4件)：

G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501 , H01L 21/68 A , H01L 21/30 562

Fターム (31件)：

2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025DA19 , 2H025EA04 , 2H025FA15 , 2H096AA25 , 2H096AA28 , 2H096GA21 , 2H096LA30 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031MA02 , 5F031MA07 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA03 , 5F046JA04 , 5F046JA22 , 5F046LA01 , 5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (2件)

ケミカルキャビネット
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002612 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-348773 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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