特許

J-GLOBAL ID：200903008971710736

六方晶窒化ほう素粉末及びその製造方法

発明者： 川崎 卓 ,  長濱 勝保 ,  黒田 幸雄
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022830
公開番号（公開出願番号）：特開平8-217424
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】 低結晶性かつ高純度の六方晶窒化ほう素(hBN)粉末を提供すること。【構成】 粉末X線回折法における黒鉛化指数(GI値)が5以上であり、かつ酸素量が1.0重量%以下であることを特徴をする六方晶窒化ほう素粉末、及びほう素と酸素を含むほう素源化合物と、窒素を含む窒素源化合物及び/又は還元剤とからなる原料混合物を窒素ガス雰囲気下1600°C以上の温度で加熱保持して六方晶窒化ほう素粉末を製造する方法において、上記窒素ガス雰囲気は、原料混合物1kgに対して標準状態で1〜200リットル/分の窒素ガス及び/又は上記温度で窒素ガスを生成するガスを原料混合物に直接接触させるように流通させて形成させたものであることを特徴とする六方晶窒化ほう素粉末の製造方法。

請求項（抜粋）：

粉末X線回折法における黒鉛化指数(GI値)が5以上であり、かつ酸素量が1.0重量%以下であることを特徴をする六方晶窒化ほう素粉末。

IPC (2件)：

C01B 21/064 ,  C04B 35/626

FI (2件)：

C01B 21/064 G ,  C04B 35/58 103 Q

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-260405
  
• 特開昭62-056308