特許
J-GLOBAL ID:200903008971986367
光輝性加飾シート
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-428502
公開番号(公開出願番号):特開2005-186354
出願日: 2003年12月25日
公開日(公表日): 2005年07月14日
要約:
【課題】 高輝度図柄層の発色が良好で、高輝度図柄層の層内剥離が生じず、高輝度図柄層の基体シートに対する密着性にも優れ、射出成形同時加飾において成形時の熱圧で高輝度図柄層が流動化しにくい光輝性加飾シートを提供する。【解決手段】 アクリル系樹脂からなる基体シート2上に、光輝性顔料を含有するインキからなる高輝度図柄層3、接着層5が少なくとも順次積層され、高輝度図柄層3を構成するインキのバインダーがアクリル系樹脂および塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂を主成分とする混合物からなり、アクリル系樹脂と塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂との重量比が3:7〜6:4の範囲内であり、アクリル系樹脂および塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂の個々の生成過程における残存OH基にイソシアネート基が架橋反応したものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
アクリル系樹脂からなる基体シート上に、光輝性顔料を含有するインキからなる高輝度図柄層が少なくとも積層され、高輝度図柄層を構成するインキのバインダーがアクリル系樹脂および塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂を主成分とする混合物からなり、アクリル系樹脂と塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂との重量比が3:7〜6:4の範囲内であり、アクリル系樹脂および塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂の個々の生成過程における残存OH基にイソシアネート基が架橋反応したものであることを特徴とする光輝性加飾シート。
IPC (3件):
B32B27/30
, B29C45/14
, B32B33/00
FI (3件):
B32B27/30 A
, B29C45/14
, B32B33/00
Fターム (42件):
4F100AK15
, 4F100AK15B
, 4F100AK22B
, 4F100AK24
, 4F100AK24A
, 4F100AK24B
, 4F100AL01
, 4F100AL01B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100CA13
, 4F100CA13B
, 4F100CA30
, 4F100CA30B
, 4F100EH46
, 4F100EJ05
, 4F100GB33
, 4F100HB31
, 4F100HB31B
, 4F100JA05
, 4F100JA05B
, 4F100JK06
, 4F100JK12A
, 4F100JK12B
, 4F100JL10
, 4F100JL10B
, 4F100JN06
, 4F100JN24
, 4F100YY00
, 4F100YY00B
, 4F206AA21C
, 4F206AD20A
, 4F206AD27A
, 4F206AF16
, 4F206AG01
, 4F206AG03
, 4F206JA07
, 4F206JB13
, 4F206JB19
, 4F206JF05
, 4F206JQ81
引用特許:
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