特許

J-GLOBAL ID：200903008990651643

5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法

発明者： 内田 修 ,  小野 三千夫 ,  中峯 猛
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-288999
公開番号（公開出願番号）：特開平7-138217
出願日： 1993年11月18日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】副生物の生成が少なく操作性に優れ、生成物の単離が容易な5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法を提供する。【構成】一般式(1)で表される2-アミドハイドロキノンジアルキルエーテル類のフリーデルクラフツアシル化を一般式(2)で表されるスルホニルクロライドの共存下行う事を特徴とする一般式(3)で表される5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法。R1,R2,R3,R4,R6は水素原子、アルキル基、アリール基等を表し、R5はアルキル基を表す。Aは-CO-,-COO-,-COS-,-CONR6-,-SO2-,-SO2NR6-から選ばれる2価の基を表し、R8はアルキル基、アリール基等を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される2-アミドハイドロキノンジアルキルエーテル類のフリーデルクラフツアシル化を下記一般式(2)で表されるスルホニルクロライドの共存下行う事を特徴とする下記一般式(3)で表される5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法。一般式(1)【化1】一般式(1)中、R1 、R2 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R3 、R4 は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R5 はアルキル基を表す。Aは-CO-、-COO-、-COS-、-CONR6 -、-SO2 -、-SO2 NR6 -から選ばれる2価の基を表し、R6 は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表す。またR4 で2量体または3量体を形成していてもよい。一般式(2)R7 SO2 Cl一般式(2)中、R7 は、一般式(2)の化合物が加水分解されてできるスルホン酸が水溶性である性質を有するアルキル基、アラルキル基、アリール基を表す。一般式(3)【化2】一般式(3)中、R1 、R2 、R3 、R4 、Aは前記と同じ意味を持ち、R8はアルキル基、アラルキル基、アリール基を表す。またR4 またはR8 で2量体または3量体を形成していてもよい。

IPC (14件)：

C07C233/25 ,  C07C233/29 ,  C07C233/33 ,  C07C233/70 ,  C07C233/75 ,  C07C235/84 ,  C07C237/42 ,  C07C271/28 ,  C07C271/58 ,  C07C307/10 ,  C07C311/02 ,  C07C311/21 ,  C07C333/08 ,  G03C 8/02