特許

J-GLOBAL ID：200903008994252700

サブセグメント化されたアライメントマーク構成

発明者： ムサ,サミ ,  ヴァン ハレン,リチャード,ヨハネス,フランシスカス ,  ラルバハドーシング,サンジャイ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-135670
公開番号（公開出願番号）：特開2009-302534
出願日： 2009年06月05日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：

【課題】極端ダイポール照明設定と、またリソグラフィ処理中の他のパターニングステップ中に使用することができるあまり極端でない設定と、改善された互換性を有するアライメントマークの構造。【解決手段】基板上のアライメントマークが、複数の第1のエレメントと複数の第2のエレメントとの周期構造を含む。これらのエレメントは、第1の方向で交互に繰り返す順序で配置される。周期構造の全体的なピッチが、第1の方向で第1のエレメントの幅と第2のエレメントの幅との和に等しい。各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を有し、各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を有する。波長λを有する放射ビームと相互作用するための第1のエレメントの光学特性が、第2のエレメントの前記光学特性と異なる。全体的なピッチが波長λより大きく、第1のサブピッチおよび第2のサブピッチのそれぞれがその波長より小さい。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板上のアライメントマークであって、該アライメントマークは第1の複数の第1のエレメントと第2の複数の第2のエレメントとの周期構造を備え、前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントは第1の方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記周期構造の全体的なピッチは前記第1の方向で前記第1のエレメントの幅と前記第2のエレメントの幅との和に等しく、 各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、 各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、 放射ビームと相互作用するための前記第1のエレメントの光学特性が、前記第2のエレメントの前記光学特性と異なっており、前記放射ビームがある波長を有し、 前記全体的なピッチが前記波長より大きく、前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチのそれぞれが前記波長より小さい、アライメントマーク。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 523 ,  H01L21/30 522B

Fターム (3件)：

5F046EA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EA10