特許
J-GLOBAL ID：200903008999436869
パタン欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
玉蟲 久五郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-072313
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289596
出願日： 1991年03月11日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】半導体集積回路等の製造に適用されるX線マスクやその他の微細パタンのパタン欠陥を電子線の走査手段を用いて高速かつ精度良く検査するパタン欠陥検査装置において、近接して併置させた被検査マスクと基準マスクを電子ビームにより同時に走査させ、各々のマスクパタン形状に反映した情報をリアルタイムに検出することにより、処理の高速化とメモリの節減を図る。【構成】電子線を発生させる電子銃と、被検査マスクと、基準マスクと、被検査マスクと基準マスク上を走査する電子ビーム走査部と、被検査マスクと基準マスクを上下に併置するマスクホルダー部と、被検査マスクあるいは基準マスクの電子信号を検出する第1の信号検出部と、被検査マスクと基準マスクを透過した電子信号を検出する第2の検出部と、第1、第2の検出部で得られた信号から被検査マスク及び基準マスクの相互のパタンエッジ情報を比較し、異なる部位を抽出する欠陥検出部より構成したことを特徴とするパタン欠陥検査装置としての構成する。
請求項（抜粋）：
電子線を発生させる電子銃と、被検査マスクと、基準マスクと、被検査マスクと基準マスク上を走査する電子ビーム走査部と、被検査マスクと基準マスクを上下に併置するマスクホルダ部と、被検査マスクあるいは基準マスクの電子信号を検出する第1の信号検出部と、被検査マスクと基準マスクを透過した電子信号を検出する第2の検出部と、第1、第2の検出部で得られた信号から被検査マスク及び基準マスクの相互のパタンエッジ情報を比較し、異なる部位を抽出する欠陥検出部より構成したことを特徴とするパタン欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 341 B
