特許
J-GLOBAL ID:200903009013852157

半導体製造装置の覗窓

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 祥二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-342765
公開番号(公開出願番号):特開平10-168568
出願日: 1996年12月06日
公開日(公表日): 1998年06月23日
要約:
【要約】【課題】反応副生成物の付着を防止し、メンテナンスを容易に行える半導体製造装置の覗窓を提供する。【解決手段】反応室30の窓孔50の内側に該窓孔を覆う補助窓板46を設け、前記反応室の窓孔に補助窓板ホルダ43が設けられ、該補助窓板ホルダに補助窓板が着脱自在に保持され、補助窓板によりプラズマ27が窓孔、窓板34迄入込むのが遮られ、窓孔、窓板に反応副生成物が付着堆積するのが抑制される。反応副生成物は反応室内壁及び補助窓板に付着するが、メンテナンスは蓋を取外して反応室内を洗浄し、補助窓板を洗浄或は交換等すればよく、補助窓板は補助窓板ホルダに嵌まっているだけでなので、取外しが容易でメンテナンスに時間が掛からず、又補助窓板は窓板に比べて薄肉であるので部品コストが低くなりメンテナンスコストが低減する。
請求項(抜粋):
反応室の窓孔の内側に該窓孔を覆う補助窓板を設けたことを特徴とする半導体製造装置の覗窓。
IPC (3件):
C23C 14/52 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (3件):
C23C 14/52 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

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