特許

J-GLOBAL ID：200903009018734560

単分散シリカ粒子の製造方法

発明者： 平野 真一 ,  鈴木 宏 ,  高木 茂之 ,  森光 英樹
出願人/特許権者： 新東工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-292520
公開番号（公開出願番号）：特開平5-105418
出願日： 1991年10月11日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【目的】原料添加を滴下方式で行う場合の粒子性状の問題点あるいは、アルキルシリケートを有機溶媒にて希釈する場合の溶媒使用量及び反応溶液量の調整の問題等を解決して大粒径の高純度単分散シリカ粒子を製造する方法を提供すること。【構成】反応溶液中にあらかじめ塩基性触媒水溶液を添加後、反応溶液を所定温度まで冷却後、アルキルシリケートの添加をするという工程を1回もしくは複数回繰り返すことによりシリカ種粒子を成長させることを特徴とする単分散シリカ粒子の製造方法。

請求項（抜粋）：

シリカ種粒子を分散させた反応溶液中に、アルキルシリケート及び塩基性触媒水溶液を添加して、該シリカ種粒子を成長させる単分散シリカ粒子の製造方法において、反応溶液中にあらかじめ塩基性触媒水溶液を添加後、反応溶液を所定温度まで冷却後、アルキルシリケートの添加をするという工程を1回もしくは複数回繰り返すことにより該シリカ種粒子を成長させることを特徴とする単分散シリカ粒子の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/18 ,  C01B 33/141 ,  C01B 33/145

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-265806
  
• 特開昭62-087409