特許

J-GLOBAL ID：200903009029369197

マイクロ波プラズマ装置

発明者： 佐藤 仁昭 ,  金清 任光
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222978
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088214
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】【目的】マイクロ波プラズマ処理装置において、エッチング速度の均一性が良く、異方性形状が得られる装置を提供する。【構成】処理ガスが、供給されると共に、所定圧力が保持されるプラズマ発生室(10)と、該プラズマ発生室(10)に、マイクロ波を導入するマイクロ波発生源(18)を有する導波管(17)と、プラズマ発生室(10)を減圧状態に保つ排気機構(16)を有したマイクロ波プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

処理ガスが供給されると共に、所定圧力が保持されるプラズマ発生室と、該プラズマ発生室にマイクロ波を導入するマイクロ波発生源を有する導波管と、プラズマ発生室を減圧状態に保つ排気機構と、前記プラズマを利用して試料を処理する際に真空室内に導入する複数個の処理ガス口とを具備したことを特徴とするマイクロ波プラズマ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L 21/302 F ,  H01L 21/302 B