特許
J-GLOBAL ID:200903009031549429

イオン注入装置におけるビーム電流測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八田 幹雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-110006
公開番号(公開出願番号):特開2000-306540
出願日: 1999年04月16日
公開日(公表日): 2000年11月02日
要約:
【要約】【課題】 イオン注入装置におけるビーム電流の測定において、そのS/N比を向上させ、より正確にビーム電流の測定を行うことができるビーム電流測定装置を提供する【解決手段】 被イオン注入ウェーハを載置する回転円盤10上にイオンビームを通過させる小孔30を1つを設け、小孔30を通過したイオンビームをファラデーカップ50により検出して、イオンビーム電流を測定する装置であって、ファラデーカップ50が、少なくとも小孔30の回転円盤の回転による移動軌跡上のイオンビーム照射範囲をカバーする大きさであることを特徴とするイオン注入装置におけるビーム電流測定装置。
請求項(抜粋):
イオン注入装置内の被イオン注入ウェーハを載置する回転円盤上にイオンビームを通過させる小孔を1つを設け、該小孔を通過したイオンビームをファラデーカップにより検出して、イオンビーム電流を測定する装置であって、前記ファラデーカップのイオンビーム検出部が、少なくとも前記小孔の前記回転円盤の回転による移動軌跡上のイオンビーム照射範囲をカバーする大きさであることを特徴とするイオン注入装置におけるビーム電流測定装置。
IPC (3件):
H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01L 21/265
FI (4件):
H01J 37/317 C ,  C23C 14/48 B ,  H01L 21/265 T ,  H01L 21/265 603 Z
Fターム (8件):
4K029BD01 ,  4K029DE00 ,  4K029EA00 ,  4K029EA09 ,  4K029JA02 ,  5C034CD05 ,  5C034CD06 ,  5C034CD07

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