特許

J-GLOBAL ID：200903009034393721

シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法

発明者： 田島 義浩 ,  石川 諭 ,  二階堂 勝
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-215349
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042500
出願日： 1999年07月29日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 膜強度が高く、大型化が容易であるとともに、安価に製造可能であるシャドウマスク用ハードマスクを提供することを目的とする。【解決手段】 UV光に対し透明な支持基板と、この支持基板上にパターン状に形成された、光還元性金属化合物の光還元により形成された金属層とこの金属層の上面および側面を覆うように形成された無電解メッキ膜とを備えたことを特徴とすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

UV光に対し透明な支持基板と、この支持基板上にパターン状に形成された、光還元性金属化合物の光還元により形成された金属層と、この金属層の上面および側面を覆うように形成された無電解メッキ膜とを備えたことを特徴とするシャドウマスク用ハードマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/00 ,  H01J 9/14

FI (2件)：

G03F 1/00 B ,  H01J 9/14 G

Fターム (6件)：

2H095AA02 ,  2H095AB30 ,  2H095BB06 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05 ,  5C027HH05