特許

J-GLOBAL ID：200903009043821922

ガス貯蔵装置

発明者： 上代 洋 ,  杉浦 勉 ,  井上 衞
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (6件)： 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-039875
公開番号（公開出願番号）：特開2005-233230
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】 優れた性能を有する、高分子金属錯体を含有するガス吸着材を利用したガス吸着装置を提供する。【解決手段】 [XY2L2]n(ただし、式中、Xは2価の遷移金属イオン、Yは対イオン、Lは有機配位子を示す)の単位構造を有する高分子金属錯体を含有するガス貯蔵装置であって、前記高分子金属錯体を失活させるガス成分を吸着する吸着材が、前記ガス貯蔵装置の前段に設けられてなる、ガス貯蔵装置である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)の単位構造を有する高分子金属錯体を含有するガス貯蔵装置であって、前記高分子金属錯体を失活させるガス成分を吸着する吸着材が、前記ガス貯蔵装置の前段に設けられてなる、ガス貯蔵装置。

IPC (4件)：

F17C11/00 ,  B01D53/02 ,  B01D53/04 ,  B01J20/26

FI (4件)：

F17C11/00 A ,  B01D53/02 Z ,  B01D53/04 B ,  B01J20/26 A

Fターム (21件)：

3E072EA01 ,  4D012BA01 ,  4D012CA07 ,  4D012CB17 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4G066AA02B ,  4G066AA05B ,  4G066AA22B ,  4G066AA31B ,  4G066AA61B ,  4G066AC11B ,  4G066BA42 ,  4G066CA25 ,  4G066CA27 ,  4G066CA29 ,  4G066CA38 ,  4G066CA43 ,  4G066CA56 ,  4G066DA04 ,  4G066GA14

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 新規有機金属錯体およびガス吸着材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283047   出願人：大阪瓦斯株式会社, 森和亮