特許

J-GLOBAL ID：200903009047284395

高多孔質シリカキセロゲルの製造方法

発明者： 中辻 みのり ,  石井 亮 ,  大井 健太
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 阿形 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-056349
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327424
出願日： 2003年03月03日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】 ゲル化に際し、その処理条件の調整や粒子生成の条件制御などの煩雑な処理を行うことなく、大きな比表面積を有する多孔質シリカキセロゲルを簡単に製造することができる方法を提供する。【解決手段】 あらかじめ層間に第四級アンモニウムイオン又は高級アルキルアミン分子をインターカレートした層状粘土鉱物に、一般式R1n-Si-(OR2)4-n(R1及びR2は炭化水素基又は置換炭化水素基、nは0又は1〜3の整数)で表わされるケイ素化合物を吸着させ、加水分解反応を行わせてシリカ前駆体を形成させたのち、高濃度酸アルコール溶液によりアルミニウム含有量が1.0質量%以下になるまで処理することにより製造する。

請求項（抜粋）：

あらかじめ層間に第四級アンモニウムイオン又は高級アルキルアミン分子をインターカレートした層状粘土鉱物に、一般式R1n-Si-(OR2)4-n(式中のR1及びR2は炭化水素基又は置換炭化水素基、nは0又は1〜3の整数である)で表わされるケイ素化合物を吸着させ、加水分解反応を行わせてシリカ前駆体を形成させたのち、高濃度酸アルコール溶液によりアルミニウム含有量が1.0質量%以下になるまで処理することを特徴とするシリカキセロゲルの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/16 ,  C08G 77/00

FI (2件)：

C01B 33/16 ,  C08G 77/00

Fターム (43件)：

4G072AA28 ,  4G072CC07 ,  4G072HH30 ,  4G072HH37 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ17 ,  4G072JJ42 ,  4G072KK01 ,  4G072LL11 ,  4G072MM31 ,  4G072QQ06 ,  4J246AA19 ,  4J246AB06 ,  4J246BA220 ,  4J246BA23X ,  4J246BA230 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA24X ,  4J246CA249 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA530 ,  4J246CA560 ,  4J246CA76X ,  4J246CA760 ,  4J246CA83X ,  4J246CA830 ,  4J246FA081 ,  4J246FA131 ,  4J246FA471 ,  4J246FA721 ,  4J246FB211 ,  4J246FB271 ,  4J246FD10 ,  4J246FE07 ,  4J246GB15 ,  4J246GB18 ,  4J246HA08 ,  4J246HA09