特許

J-GLOBAL ID：200903009059423676

周期構造作成方法

発明者： 二宮 孝文
出願人/特許権者： キヤノンマシナリー株式会社
代理人 (6件)： 江原 省吾 ,  田中 秀佳 ,  白石 吉之 ,  城村 邦彦 ,  熊野 剛 ,  山根 広昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-025561
公開番号（公開出願番号）：特開2006-212646
出願日： 2005年02月01日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】 微細周期構造を用いた表面改質法において、トライボロジー特性や凝着力特性・膜密着・加飾性・生態親和性などの表面機能の向上と更なる用途拡大を図り得るための、周期構造の構造均一性と空間周期の均一性の改善。【解決手段】 レーザ照射の1ショットで1発目のパルスレーザの照射からアブレーションプロセスに基づく極短時間のパルス間隔で2発目のパルスレーザを含む複数のパルスレーザを順次照射し、蒸発粒子と2発目以降のパルスレーザを相互作用させ、蒸発粒子の微細化や蒸散速度の増加・材料表面に対する高温・高圧場の作用などの相互作用を利用して、構造均一性を向上させる。また、均一性の高い構造から生ずる表面散乱波と入射レーザの干渉現象とオーバーラップ走査により、周期構造の空間周期の均一性を向上させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

固体材料の表面をフェムト秒ないしはピコ秒パルスレーザで、当該パルスレーザのスポット径および発振周波数に応じて同一部分にパルスレーザが繰り返し照射されるように、照射される部分をオーバーラップさせながら走査して、固体材料表面に自己組織的に周期構造を作成する周期構造作成方法であって、 前記レーザ照射の1ショットで、1発目のパルスレーザと、この1発目パルスレーザの照射からアブレーションプロセスに基づいた極短時間のパルス間隔の2発目のパルスレーザとを含むパルスレーザを、順次に照射することを特徴とする周期構造作成方法。

IPC (5件)：

B23K 26/36 ,  B23K 26/00 ,  G02B 5/18 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/10

FI (5件)：

B23K26/36 ,  B23K26/00 N ,  G02B5/18 ,  H01S3/00 B ,  H01S3/10 Z

Fターム (16件)：

2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA13 ,  2H049AA31 ,  2H049AA33 ,  4E068AH00 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CA07 ,  5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172NN26 ,  5F172NR03 ,  5F172NR30 ,  5F172ZZ01