特許

J-GLOBAL ID：200903009075372712

フォトマスクの検査装置および検査方法

発明者： 石川 喜一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137371
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330163
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】より微細な欠陥まで検出することができるフォトマスクの検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】フォトマスクを使用する所定の露光装置の光源と実質的に同様な波長の光が光源から出射され、上記の露光装置の光学系と実質的に同様であって、光路上にこのフォトマスクが配置される光学系に導かれ、光強度イメージ生成部において、光学系から導かれた光が受光されて光強度イメージが生成される(S14a)一方で光強度シミュレータ部においてマスク設計データからシミュレーションにより光強度シミュレーションイメージが算出され(S14b)、両者が比較判定部において比較され(S15)、フォトマスクの欠陥の有無が判定される(S16)構成とする。または、2つの同一な光遮蔽パターンに対応する2つの光強度イメージを生成し、両者を比較する構成とする。

請求項（抜粋）：

マスク基板上にマスク設計データに基づいて光遮蔽パターンの遮蔽膜が形成されたフォトマスクを所定の露光装置で用いたときの前記遮蔽膜の光遮蔽パターンの欠陥を検査するフォトマスクの検査装置であって、前記露光装置の光源と実質的に同様な波長の光を出射する光源と、前記露光装置の光学系と実質的に同様であって、前記光源の光を導き、光路上に前記フォトマスクが配置される光学系と、前記光学系から導かれた光を受光して光強度イメージを生成する光強度イメージ生成部と、前記マスク設計データからシミュレーションにより光強度シミュレーションイメージを算出する光強度シミュレータ部と、前記光強度イメージと前記光強度シミュレーションイメージを比較し、前記フォトマスクの欠陥の有無を判定する光強度イメージ比較判定部とを有するフォトマスクの検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (9件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CB02 ,  2G051EB09 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD11 ,  2H095BD28