電子ビ-ム装置用マスク及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮越典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-069683
公開番号（公開出願番号）：特開平10-268506
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】従来の製造工程と比較して大幅な工程増を生じさせることなく、電子ビ-ム装置用マスクの機械的強度を向上させ、且つ、パタ-ンブロック領域の数を増やすことができ、更に、パタ-ン形状開口部厚tの薄膜化を可能にし、加工精度向上が得られる電子ビ-ム装置用マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】薄膜領域1内に種々のパタ-ン形状開口部3が形成されている複数のパタ-ンブロック領域2の間に、パタ-ン形状開口部3の厚さtよりも厚く、マスク支持部4の厚さTよりも薄くした、表面と裏面に平坦部を有する、ブロック間薄膜マスク支持部5を形成し、また、パタ-ンブロック領域2内のパタ-ン形状開口部3が形成されていない可変成形用のビ-ム遮断領域にも、パタ-ン形状開口部3の厚さtよりも厚く、マスク支持部4の厚さTよりも薄くした、表面と裏面に平坦部を有する、第2のブロック間薄膜マスク支持部6を形成した構造の電子ビ-ム装置用マスク。

請求項（抜粋）：

電子ビ-ム描画法を用いてウェハ-上に形成されるパタ-ンのうち、パタ-ンの繰り返しからなる部分に、該パタ-ンに対応する形状のパタ-ン形状開口部が形成されている複数のパタ-ンブロック領域のうちの1つを選択し、その中に形成されているパタ-ン形状開口部の1つに電子ビ-ムを照射して一括描画するための電子ビ-ム装置用マスクにおいて、前記パタ-ン形状開口部が形成されている複数のパタ-ンブロック領域の周囲に、パタ-ン形状開口部の厚さよりも厚く、マスク支持部の厚さよりも薄くした、表面と裏面に平坦部を有する、ブロック間薄膜マスク支持部を形成してなることを特徴とする電子ビ-ム装置用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/16 , G03F 7/20 504 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/16 , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 541 S

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