フッ素化ポリマー、フォトレジストおよびミクロリソグラフィーのための方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-615852
公開番号（公開出願番号）：特表2002-543469
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
要約：

【要約】ミクロリソグラフィーのためのフッ素化ポリマー、フォトレジストおよび関連するプロセスを記載する。これらのポリマーおよびフォトレジストは、これらの材料に対して高い紫外(UV)透明性および塩基性媒質中での現像性を同時に付与するフルオロアルコール官能基を含む。本発明の材料は、特に短波長(たとえば、157nm)において高いUV透明性を有し、それは、それら材料をこれら短波長におけるリソグラフィーのために非常に有用にする。

請求項（抜粋）：

(a) 構造-C(Rf)(Rf ́)OH(式中、RfおよびRf ́は、1〜10炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)n(nは2〜10である)である)を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位を含むフッ素含有ポリマーと、(b)少なくとも1つの光活性成分とを含み、該フッ素含有ポリマーは157nmの波長において4.0μm-1未満の吸収係数を有することを特徴とするフォトレジスト。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/038

FI (2件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/038

Fターム (17件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BC83 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB41 , 2H025CB51 , 2H025CC17 , 2H025FA17

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