特許
J-GLOBAL ID：200903009090754710
反応容器のクリーニング方法及び成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-337082
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172409
出願日： 2002年11月20日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】成膜装置において反応容器内に付着した薄膜をフッ素を含むクリーニングガスでクリーニングするにあたり、その後ウエハに対して成膜処理をおこなったときに薄膜へのフッ素の混入を抑えること。【解決手段】反応容器内にクリーニングガスを供給しながら反応容器内の温度を検出し、クリーニングガスを供給する前の反応容器内の温度をT0とすると、温度検出値がピーク値Tpに達したとき、あるいはその後T0+0.5(Tp-T0)の値になるまでの間にクリーニングガスの供給を止める。この方法は温度検出値と設定値との比較により実施してもよいが、クリーニングガスの供給を開始してから設定温度になるまでの時間を予め求め、経過時間を管理することによりクリーニングガスの供給を止めるようにしてもよい。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被処理体に対して成膜処理を行った反応容器内をフッ素を含むクリーニングガスによりクリーニングする方法において、
反応容器内にクリーニングガスを供給しながら反応容器内の温度を検出する工程と、
この工程で検出した温度がピーク値Tpに達した後、クリーニングガスを供給する前の反応容器内の温度T0と(Tp-T0)×0.5とを加算した値になるまでの間にクリーニングガスの供給を止める工程と、を含むことを特徴とする反応容器のクリーニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
4K030AA04
, 4K030DA03
, 4K030DA06
, 4K030HA17
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA11
, 4K030KA39
, 4K030KA45
, 4K030KA46
, 4K030LA15
, 5F045AC02
, 5F045AC15
, 5F045BB14
, 5F045DP19
, 5F045EC05
, 5F045EE18
, 5F045GB05
