特許

J-GLOBAL ID：200903009103825507

ウェットエッチング処理槽

発明者： 岩下 雅文
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132191
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326487
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 槽内の薬液中のパーティクルを短時間で減らす。【構成】 ウェハをオーバーフロー槽11で処理した後、循環フィルタリング用のポンプ12を停止させ、オーバーフロー槽の薬液をバルブ15を開いて配管14を通して貯液槽16に抜く。全て抜き終わった後、貯液槽16の薬液をポンプ17によりフィルター18を通してオーバーフロー槽11に投入する。投入後、ポンプ12を作動させ、循環フィルタリングを再び行う。これにより、短時間に薬液中のパーティクルを除去できる。

請求項（抜粋）：

オーバーフロー槽の薬液を第1のポンプおよび第1のフィルターを介して内槽に導入する第1の機構と、前記内槽および前記オーバーフロー槽の薬液を貯める貯液槽を備え、前記貯液槽の薬液を第2のポンプと第2のフィルターを介して前記内槽に導入する第2の機構とを有したことを特徴とするウェットエッチング処理槽。