特許
J-GLOBAL ID：200903009106827101
光学薄膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008719
公開番号（公開出願番号）：特開平8-199352
出願日： 1995年01月24日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【目的】 スパッタリングによる金属フッ化物の解離を有効に防止し、有害なフッ素系ガスを使用することなく、可視光吸収のない良好な金属フッ化物薄膜を形成することができる光学薄膜の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 金属フッ化物を含有する顆粒状材料をターゲットとし、このターゲットに高周波電力を投入してターゲット上にプラズマを発生させ、温度上昇により発生したターゲットからの蒸気をスパッタリングすることにより成膜を行う。
請求項（抜粋）：
金属フッ化物を含有する顆粒状材料をターゲットとし、このターゲットに高周波電力を投入してターゲット上にプラズマを発生せしめ、前記プラズマにより前記ターゲット表面の温度を上昇させ、前記ターゲットからの蒸気をスパッタリングすることにより成膜を行うことを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
C23C 14/34
, C23C 14/06
, G02B 1/11
, G02B 5/08
, G02B 5/28
