特許

J-GLOBAL ID：200903009111777830

ハードコーティング膜及びその製造方法並びにハードコーティング膜の蒸着装置

発明者： 伊藤 弘基 ,  梶田 直幸 ,  花井 正博
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-241404
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104976
出願日： 1994年10月05日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 硬い材料を加工しても摩耗が少なく、基材との密着性が高く、さらに、硬度が高いために精度良く加工ができるハードコーティング膜及びその製造方法、並びにハードコーティング膜の蒸着装置を得ることを目的とする。【構成】 ガス導入系5によってガスイオン源10に少なくとも1種類以上の窒素ガス、メタンガス、アンモニアガス等の窒素元素または炭素元素を含むガスをガスイオン源10に導入し、ガスイオンを基材1に照射する。一方、金属イオン源9を稼働させ、チタン等の金属材料のイオンを基材1に照射する。ガスイオンと金属イオンは、基材1上で反応して、窒化チタン等が基材1上に形成される。【効果】 基材との密着性が高く、膜組成を連続的に変えることができ、膜歪が小さく切削中の剥離が起こりにくいハードコーティング膜が得られる。

請求項（抜粋）：

基材表面にコーティングされたハードコーティング膜であって、このハードコーティング膜は、上記基材からハードコーティング膜の表面に向かって窒素組成が変化するTiNx(0<x<1)であることを特徴とするハードコーティング膜。

IPC (3件)：

C23C 14/06 ,  B23P 15/28 ,  B23B 27/14