特許
J-GLOBAL ID：200903009115650451
リソグラフィー用下地材及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-212443
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035201
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【構成】 グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体から成るか、又はこれに紫外線吸収剤を含有させて成るリソグラフィー用下地材、及び(A)基板上に前記下地材から成る第一層を形成する工程、(B)この第一層の上にポジ型レジストから成る第二層を設けたのち、露光、次いで現像処理してパターン化する工程、(C)該パターン化したレジスト層をケイ素含有蒸気によりシリル化する工程、及び(D)このシリル化処理されたレジストパターンをマスクとして酸素系ガスを用いたドライエッチング法により、該下地材から成る第1層をパターン化する工程を順次施し、パターンを形成する方法である。【効果】 断面が矩形で高解像度及び高選択比のレジストパターンが簡素化されたプロセスにより容易に得られる。
請求項（抜粋）：
グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体から成るリソグラフィー用下地材。
IPC (4件)：
G03F 7/11 502
, G03F 7/26
, G03F 7/38 512
, H01L 21/027
