プラズマ処理装置のメンテナンス処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：沼形義彰 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370399
公開番号（公開出願番号）：特開2002-176031
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理装置の処理室内部の部品交換やメンテナンス作業時に、プラズマ処理装置の不稼動時間を短縮できるプラズマ処理装置のメンテナンス処理方法を提供する。【解決手段】処理室100内に設けられたアンテナ110から放射される電磁波と、磁場形成手段101で形成される磁場との相互作用により、処理室内部にプラズマを発生してウエハWを処理するプラズマ処理装置において、処理室100を大気に開放する際、該処理室内100にガスを供給して処理室内100のガス圧力を増加することで、処理室内の構成部材間の熱伝導性を向上し、処理室内の部材(外周リング116)温度を迅速に所定の温度域に下げた後に、処理室を大気に開放する。この結果、プラズマ処理装置の処理室内部の部品交換やメンテナンス作業時にプラズマ処理装置の不稼動時間を短縮でき、実効的の生産性を向上することができる。

請求項（抜粋）：

真空容器としての処理室と、プラズマ発生装置と、処理室にガスを供給するガス供給手段と、該処理室内で処理される試料を保持する電極と、該処理室を減圧する真空排気系とを有するプラズマ処理装置において、該処理室内の圧力を検知する圧力検知手段とを具備し、該処理室を大気に開放する際、該処理室にガス供給手段よりガスを供給してガス圧力を調節することで熱伝導性を向上し処理室内の温度を迅速に低下させた後に処理室を大気に開放することを特徴とするプラズマ処理装置のメンテナンス処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46 M , H01L 21/302 B

Fターム (26件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA01 , 4K030FA01 , 4K030FA03 , 4K030FA04 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004CA02 , 5F004CA09 , 5F004DA00 , 5F004DA23 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045EB05 , 5F045EB17 , 5F045EE13 , 5F045GB11 , 5F045GB15

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