特許
J-GLOBAL ID：200903009118742829
X線露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-295457
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151281
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】X線露光装置の光学素子表面への炭素析出を防ぎ、該装置のスループットおよび解像力を向上させる。【構成】所望のパターンが形成されたマスク2および光学素子12からなり、該マスクにX線6を照射して前記パターンをウエハ5上に投影するX線光学系と、該X線光学系を真空空間中に保持する真空容器7とを有するX線露光装置において、光学素子およびマスクの表面の少なくとも1つの面に対し、その面への炭素の析出を防止する手段1を設けた。
請求項（抜粋）：
所望のパターンが形成されたマスクおよび光学素子からなり、該マスクにX線を照射して前記パターンをウエハ上に投影するX線光学系と、該X線光学系を真空空間中に保持する真空容器とを有するX線露光装置において、前記光学素子およびマスクの表面の少なくとも1つの面に酸素のイオンビームを照射する手段を有することを特徴とするX線露光装置。
IPC (2件)：
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