特許
J-GLOBAL ID：200903009122735586
構造物の製造に関する装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲吉▼川 俊雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-544087
公開番号（公開出願番号）：特表2003-516644
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：
【要約】ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関連する装置が開示され、この装置は、第1の主に平らな表面(2a)を有する第1の主要部分(1)と、第2の主に平らな表面(9a)を有する第2の主要部分(3)とを具備し、該第1の表面と該第2の表面とは、互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、該第1の表面および該第2の表面はそれぞれ、基板(5)およびテンプレート(10)用のサポートを形成するように配列され、または逆も同様である。本発明によると、該第2の主要部分(3)は、媒体用のキャビティ(6)と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、該キャビティの壁は、可撓性のある膜(9)から構成され、その一方の側は、該キャビティ(6)から離れて面しており、該第2の表面(9a)を形成する。本発明は、この装置を使用する方法にも関する。
請求項（抜粋）：
ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関する装置であって、第1の主に平らな表面(2a)を有する第1の主要部分(1)と、第2の主に平らな表面(9a)を有する第2の主要部分(3)とを具備し、該第1の表面と該第2の表面とは互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、該第1の表面および該第2の表面が、それぞれ、基板(5)およびテンプレート(10)用のサポートを形成するようにまた逆も同様に配列される装置において、該第2の主要部分(3)が、媒体用のキャビティ(6)と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、該キャビティの壁は、可撓性のある膜(9)から構成され、その一方の側は、キャビティ(6)から離れて面しており、該第2の表面(9a)を形成することを特徴とする装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B81C 5/00
, G03F 7/20 501
B81C 5/00
, G03F 7/20 501
, H01L 21/30 502 D
2H097CA11
, 5F046AA28
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC08
, 5F046CC09
, 5F046DA26
