特許
J-GLOBAL ID：200903009124517160
磁気ヘッドの製造方法及び磁気ヘッド
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-134457
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342154
出願日： 2003年05月13日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】磁気抵抗効果素子の形成工程において、レジスト及びその上に堆積した磁区制御膜を除去する工程で、確実に除去する。【解決手段】トラック加工に用いたレジストマスク4の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程(d)を導入する。平坦化工程によってマスクを露出させた後、レジスト除去を行なう(e)ことにより、微細トラック形成を達成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
下部金属層を形成する工程と、
前記下部金属層の上に磁気抵抗効果膜を形成する工程と、
前記磁気抵抗効果膜上にレジストパターンを形成し、当該レジストパターンをマスクとして前記磁気抵抗効果膜をパターニングする工程と、
前記レジストパターンを残したまま磁区制御膜を積層する工程と、
前記レジストパターン上に形成された磁区制御膜、前記レジストパターンの一部及び前記下部金属層の上に形成された磁区制御膜の一部を除去して前記レジストパターンを露出させる平坦化工程と、
前記露出したレジストパターンを除去する工程と、
前記磁気抵抗効果膜上に上部金属層を形成する工程と
を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5D034BA03
, 5D034BA09
, 5D034BA11
, 5D034DA07
