特許

J-GLOBAL ID：200903009126184509

汚染物質分解方法及び装置

発明者： 栗山 朗 ,  加藤 欽也 ,  川口 正浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354342
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153732
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】 より簡易で、より効率的な汚染物質の分解方法及びそれに用いる汚染物質分解装置を提供すること。【解決手段】 反応容器内に設けられた反応領域に、分解対象物である汚染物質と、該汚染物質の光照射下での分解のための物質とを導入し、光照射下でこれらを接触させて該汚染物質を分解処理する際に、該反応領域への前記気体の導入に応じて生じる前記反応容器からの排気中での前記汚染物質の残存量を測定し、測定された残存量に応じて、前記分解のための物質の前記反応領域での分解反応を制御して、汚染物質の分解率を効果的に維持する。

請求項（抜粋）：

反応容器内に設けられた反応領域に、分解対象物である汚染物質と、該汚染物質の光照射下での分解のための物質とを導入し、光照射下でこれらを接触させて該汚染物質を分解処理する汚染物質の分解方法であって、前記汚染物質及び前記分解のための物質の少なくとも一方を、気体中に含有させて前記反応領域に導入する工程と、該反応領域への前記気体の導入に応じて生じる前記反応容器からの排気中での前記汚染物質の残存量を測定する工程と、該残存量に応じて、前記分解のための物質の前記反応領域での分解反応を制御する工程と、を有することを特徴とする汚染物質の分解方法。

IPC (7件)：

B01D 53/72 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/76 ,  C07B 35/06 ,  C07B 37/06

FI (7件)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/76 Z ,  C07B 35/06 ,  C07B 37/06 ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB

Fターム (41件)：

4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002DA53 ,  4D002EA06 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037CA04 ,  4D050AA02 ,  4D050AA12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB05 ,  4D050BC09 ,  4D061DA02 ,  4D061DA08 ,  4D061DB07 ,  4D061DB10 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061EA03 ,  4D061EB01 ,  4D061EB02 ,  4D061EB12 ,  4D061EB14 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED17 ,  4D061GA30 ,  4D061GC20 ,  4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006AC26