特許

J-GLOBAL ID：200903009126369428

半導体レーザー装置及びそれを用いたホログラム装置。

発明者： 木暮 一也 ,  ウィリアム エル ウィルソン
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社 ,  インフェイズ テクノロジーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 一色国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-209256
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027517
出願日： 2005年07月19日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】簡易な仕組みで波長安定化を図る。【解決手段】レーザービームを発振出力する半導体レーザー素子を有した半導体レーザー装置において、前記半導体レーザー素子の温度調整を行う温度調整部と、前記半導体レーザー素子から発振出力されるレーザービームを互いに異なる光路を形成する第1ビーム及び第2ビームへと分離するレーザービーム分離部と、前記第1及び前記第2ビームを干渉させて得られる複数の縞を有した干渉縞の縞間隔を一定とすべく、前記温度調整部における操作量を定める温度調整制御部と、を有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

レーザービームを発振出力する半導体レーザー素子を有した半導体レーザー装置において、 前記半導体レーザー素子の温度調整を行う温度調整部と、 前記半導体レーザー素子から発振出力されるレーザービームを互いに異なる光路を形成する第1ビーム及び第2ビームへと分離するレーザービーム分離部と、 前記第1及び前記第2ビームを干渉させて得られる複数の縞を有した干渉縞の縞間隔を一定とすべく、前記温度調整部における操作量を定める温度調整制御部と、 を有することを特徴とする半導体レーザー装置。

IPC (4件)：

H01S 5/068 ,  H01S 5/022 ,  H01L 31/12 ,  G03H 1/04

FI (4件)：

H01S5/0687 ,  H01S5/022 ,  H01L31/12 H ,  G03H1/04

Fターム (25件)：

2K008AA04 ,  2K008BB04 ,  2K008HH01 ,  5F089BA05 ,  5F089BB04 ,  5F089BC07 ,  5F089BC08 ,  5F089BC25 ,  5F089CA15 ,  5F089FA06 ,  5F089GA03 ,  5F173SA02 ,  5F173SA12 ,  5F173SC10 ,  5F173SE01 ,  5F173SF03 ,  5F173SF09 ,  5F173SF17 ,  5F173SF19 ,  5F173SF32 ,  5F173SF33 ,  5F173SF46 ,  5F173SF63 ,  5F173SJ06 ,  5F173SJ10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体レーザ温度制御回路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-220148   出願人：日立電線株式会社