特許
J-GLOBAL ID：200903009134949468
ロータリー型量産用CVD成膜装置及びプラスチック容器内表面へのCVD膜成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
今下 勝博
, 岡田 賢治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-115386
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002905
出願日： 2002年04月17日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】本発明は小型で生産効率の高く少数の高周波電源で稼動可能で回転支持体が一周する間に成膜チャンバが一製造サイクルを行なうロータリー型量産用CVD成膜装置及び製膜方法を提供する。【解決手段】本発明のロータリー型量産用CVD成膜装置は、容器を収納する成膜チャンバをサークル状に複数配設した回転支持体と各容器の内部に原料ガスを導入する原料ガス導入手段と外部電極ごとに高周波を供給する高周波供給手段とを備え、回転支持体を1回転させる間に各容器の内表面にCVD膜を成膜する装置であって、高周波供給手段は、外部電極ごとに具設した固定整合器と1以上の高周波電源と高周波電源ごとに具設した自動整合器と所定の成膜チャンバのみに固定整合器を介して自動整合器から受けた高周波を均等に供給する高周波分配手段と所定高周波電源の出力制御を行なうための高周波電源出力制御手段とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラスチック容器を収納する外部電極と該プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置される内部電極並びに該内部電極が該プラスチック容器内に挿入される時に内部電極と外部電極とが絶縁状態となる蓋とからなる密封可能な成膜チャンバーをサークル状に複数配設した回転支持体と、各プラスチック容器の内部にプラズマ化させる原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、前記外部電極ごとに高周波を供給する高周波供給手段とを備え、前記回転支持体を1回転させる間に、前記プラスチック容器の容器装着手段、該プラスチック容器の内部を原料ガスに置換するとともに所定の成膜圧力に調整する成膜前ガス調整手段、該プラスチック容器の内表面にCVD(化学気相成長)膜を成膜するCVD成膜手段、コーティング済み容器の内部圧力を大気圧に戻す成膜後ガス調整手段並びに容器取出手段の各手段を作動させるロータリー型プラズマCVD成膜装置であって、
前記高周波供給手段は、前記外部電極ごとに具設した固定整合器と、1以上の高周波電源と、該高周波電源ごとに具設した自動整合器と、前記CVD成膜手段を作動させる成膜チャンバーのみに前記固定整合器を介して前記自動整合器から受けた高周波を均等に供給する高周波分配手段と、前記高周波電源のうち、前記CVD成膜手段の作動開始時及び作動終了時の状態にある外部電極に対して高周波供給をする高周波電源の出力制御を行なうための高周波電源出力制御手段とを備えることを特徴とするロータリー型量産用CVD成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA14
, 4K030CA15
, 4K030CA16
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030GA09
, 4K030JA18
, 4K030KA05
, 4K030KA17
, 4K030KA30
, 4K030KA41
