特許

J-GLOBAL ID：200903009138238248

有機溶剤の揮発ガス吸着・脱臭装置。

発明者： 迫田 義孝 ,  山屋 雅敏
出願人/特許権者： エンバイロメデイカル株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-336307
公開番号（公開出願番号）：特開2007-117684
出願日： 2005年10月25日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：

【課題】ネイルアートで使用される有機溶剤の揮発ガスは、人体に有害で臭いも強烈である。揮発ガスの室内濃度を薄めることが可能な装置を提供する。【解決手段】室内に拡散した有機溶剤の揮発ガスを、強制循環させて吸引し外部へ放出する吸引・放出装置1と、揮発ガスを吸着するフィルター装置3と、同フィルター装置を通過した揮発ガスを中和する中和剤8を備え、揮発ガスを無害・無臭の状態にして外部へ放出する。上記フィルター装置3は活性炭とケミカルフィルターで構成され、中和剤はアセトアルデヒドを中和する中和剤であるが、ネイルアートで使用頻度の高いアクリル酸やアセトンの微量の揮発ガスも中和することを特徴とする。また、吸引・放出装置の放出部近傍にマイナスイオン発生装置12を設置し、マイナスイオンを発生させ人に優しい爽やかな職場空間を演出する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有機溶剤の揮発ガスを吸込用ヘッドから強制吸引し、放出部から外部へ放出する吸引・放出装置と、上記吸引用ヘッドと上記放出部との間に、上記吸込用ヘッドから吸引された上記揮発ガスを吸着・脱臭するフィルター装置と、同フィルター装置を通過した揮発ガスを中和する中和剤とを介装した有機溶剤の揮発ガス吸着・脱臭装置

IPC (3件)：

A61L 9/01 ,  A61L 9/16 ,  A61L 9/22

FI (4件)：

A61L9/01 B ,  A61L9/16 D ,  A61L9/01 K ,  A61L9/22

Fターム (22件)：

4C080AA05 ,  4C080AA06 ,  4C080AA09 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080CC12 ,  4C080HH02 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ03 ,  4C080KK02 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080LL10 ,  4C080LL12 ,  4C080MM05 ,  4C080MM18 ,  4C080MM22 ,  4C080MM40 ,  4C080NN01 ,  4C080QQ11 ,  4C080QQ17 ,  4C080QQ20