特許

J-GLOBAL ID：200903009144379198

感光性組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法

発明者： ▲廣▼ 昌彦 ,  宮坂 昌宏 ,  瀬谷 孝博
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-354263
公開番号（公開出願番号）：特開平11-184077
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】 優れた感光特性を損なうことなく優れた保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物並びに優れた耐熱性、解像性及び耐薬品性を示し、形状の良好なレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)環に結合する水素原子が置換基により置換されていてもよいベンゾキノン化合物、フェノール化合物、カテコール化合物、レゾルシノール化合物、ハイドロキノン化合物及び有機スルフィド化合物から選択される化合物、(B)光重合開始剤、(C)γ-ブチロラクトン並びに(D)付加重合性基を有する化合物又は付加重合性基を有する重合体を含有してなる感光性組成物並びにこの感光性組成物の塗膜上にパターンを描いたマスク上から活性光線を照射し、未照射部を現像除去することを特徴とするレリーフパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

(A)環に結合する水素原子が置換基により置換されていてもよいベンゾキノン化合物、フェノール化合物、カテコール化合物、レゾルシノール化合物、ハイドロキノン化合物及び有機スルフィド化合物から選択される化合物、(B)光重合開始剤、(C)γ-ブチロラクトン並びに(D)付加重合性基を有する化合物又は付加重合性基を有する重合体を含有してなる感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/30 502 R