特許

J-GLOBAL ID：200903009167858530

酸化第二銅の製造方法

発明者： 小谷中 誠 ,  小林 裕子
出願人/特許権者： 日本化学産業株式会社
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-156194
公開番号（公開出願番号）：特開平5-319825
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：

【要約】【目的】 塩化銅を含むプリント基板のエッチング排液をアルカリ水溶液と反応させ酸化第二銅として有効に回収するにおいて、沈降性の良い均一で大きな粒子径を生成させ、水洗並びに固液分離の時間短縮をなし、高純度の酸化第二銅を安価に大量生産することを目的とする。【構成】 塩化第二銅を含むプリント基板のエッチング排液を苛性アルカリで中和し、その銅溶液と苛性アルカリ水溶液とを、温度40〜50°Cに保持した水溶液中に同時に滴下混合して、その溶液のpHを弱酸性から弱アルカリ性の範囲に維持しながら銅の水和物を生成させ、次いでpH12〜13にし、温度70〜80°Cで30分間維持した後、水洗、固液分離することを特徴とする酸化第二銅の製造方法である。

請求項（抜粋）：

塩化第二銅を含むプリント基板のエッチング排液を苛性アルカリでpH1まで中和し、この銅の溶液と苛性アルカリ水溶液とを、温度40〜50°Cに保持した水溶液中に同時に滴下混合して、その溶液のpHを4〜10好ましくは5〜9の範囲に保持しながら銅の水和物を生成させ、次いでpH10以上で加熱酸化して、析出した反応生成物を水洗かつ固液分離するこを特徴とする酸化第二銅の製造方法。