特許
J-GLOBAL ID：200903009177208925
シリコンウエーハの評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-153622
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330043
出願日： 1998年05月18日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 シリコンウエーハの測定のための手間のかかる前処理や高額装置を必要とせず、安全、簡便、低コスト、迅速にウエーハ面内全面について重金属汚染の有無及びライフタイムの低下等を信頼性高く評価出来るシリコンウエーハの評価方法を提供する。【解決手段】 シリコンウエーハをアルカリ水溶液でエッチングし、その後シリコンウエーハの表面状態を観察することを特徴とするシリコンウエーハの評価方法。
請求項（抜粋）：
シリコンウエーハをアルカリ水溶液でエッチングし、その後シリコンウエーハの表面状態を観察することを特徴とするシリコンウエーハの評価方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/306 Z
, H01L 21/66 L
