特許
J-GLOBAL ID：200903009178362189
静電記録用イオン発生装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227180
公開番号（公開出願番号）：特開平5-064916
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】イオンの発生を妨げることなく誘電体と電極とを固着させることが可能であり、それによって高精細な画像形成を可能とする静電記録用イオン発生装置を安価に製造する方法を提供すること目的とする。【構成】2液反応型アクリル樹脂中に誘電体粉体を分散して誘電体ペ-ストを形成する工程、絶縁基板及び第1の電極の上、及び第2の電極の上に誘電体ペ-ストを塗布して、それぞれ第1及び第2の誘電体ペ-スト層を形成する工程、第1の電極に対応する位置に第2の電極の開口部がくるように、第1及び第2の誘電体ペ-スト層を密着させる工程、及び密着した第1及び第2の誘電体ペ-スト層を硬化し、第1の電極と前記第2の電極の間に誘電体層を形成する工程を具備することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
絶縁基板上に一方向にかつ平行に延設された複数の第1の電極と、この第1の電極と交差する方向に延設され、前記第1の電極とともにマトリックスを形成し、このマトリックスに対応する部位に開口部が形成された複数の第2の電極と、この第2の電極に対し前記第1の電極とは反対側に配置され、前記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された第3の電極と、前記第1の電極と第2の電極との間に設けられた誘電体層と、前記第2の電極と第3の電極との間に設けられ、前記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された絶縁層とを具備する静電記録用イオン発生装置の製造方法において、2液反応型アクリル樹脂中に誘電体粉体を分散して誘電体ペ-ストを形成する工程、前記絶縁基板及び第1の電極の上、及び前記第2の電極の上に誘電体ペ-ストを塗布して、それぞれ第1及び第2の誘電体ペ-スト層を形成する工程、前記第1の電極に対応する位置に前記第2の電極の開口部がくるように、前記第1及び第2の誘電体ペ-スト層を密着させる工程、密着した第1及び第2の誘電体ペ-スト層を硬化し、前記第1の電極と前記第2の電極の間に誘電体層を形成する工程、前記誘電体層及び前記第2の電極の上に前記絶縁層を形成する工程、及び前記絶縁層上に第3の電極を形成する工程を具備する静電記録用イオン発生装置の製造方法。
IPC (2件)：
B41J 2/415
, G03G 15/00 115
